連續式磁控濺射鍍膜設備
產品簡介
該系列生產線主要用于在平板玻璃、壓克力、PC、PET等表面鍍制高質量、高性能金屬膜、電磁屏蔽膜、反應膜、復合膜、透明導電膜、抗反射（AR）、增反射膜，LOW-E等膜層。本公司可按用戶要求提供設計，提供全套設備，負責工藝，按交“鑰匙”工程服務。
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該系列生產線主要用于在平板玻璃、壓克力、PC、PET等表面鍍制高質量、高性能金屬膜、電磁屏蔽膜、反應膜、復合膜、透明導電膜、抗反射（AR）、增反射膜，LOW-E等膜層。本公司可按用戶要求提供設計，提供全套鍍膜設備，負責工藝，按交“鑰匙”工程服務。
優勢：
· 設備模組化設計，易拆卸，維修，保養
· 高靶材利用率
· 高生產力及產品良率
· 環保制程無污染及環保問題
· 高客制化兼顧產品規格與低投資成本需求
整廠輸出：-
· 單片式玻璃觸控面板整廠輸出
· CIGS整廠輸出
· 4AR/6AR整廠輸出
· 卷對卷ITO膜整廠輸出
· 太陽能整廠輸出
· 電致變色整廠輸出
1．極限真空：7x10-4Pa.
2．生產周期40~120秒/架
3．基本架尺寸：859*1500mm (可以根據要求定做)
4．膜層均勻性：±2%
5．膜層穩定性：達到國際標準
玻璃、導電膜
廣泛地用于液晶顯示器(LCD)、太陽能電池、微電子ITO導電膜玻璃、光電子和各種光學領域
適用于柔性電致變色器件、柔性薄膜太陽能電池、柔性EL發光器件的制備和生產
