PECVD磁控濺射鍍膜生產線
產品簡介
利用射頻離子化學氣相沉積技術，具有沉積速率快，成膜質量好的特點，可快速鍍制大型平面的氧化物薄膜、氮化物薄膜、氧氮化物薄膜、無定型硅薄膜和碳化硅薄膜等薄膜。
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PECVD磁控濺射鍍膜生產線利用射頻離子化學氣相沉積技術，具有沉積速率快，成膜質量好的特點，可快速鍍制大型平面的氧化物薄膜、氮化物薄膜、氧氮化物薄膜、無定型硅薄膜和碳化硅薄膜等薄膜。
組成和系統：
1、PECVD磁控生產線由八個室組成，分別為：過渡室—加熱室—RF I室—RF II室—RF III室—RF IV室—冷卻室—過渡室。
2、PECVD磁控生產線由進片臺系統、出片臺系統、貨盤回流系統、整機系統、真空機組系統、工件驅動和夾具系統、真空測量與壓強控制系統、工件烘烤系統、冷卻配水及壓縮空氣系統、操作控制系統十大系統組成。
真空室尺寸和技術指標：
尺寸：1000×800（尺寸可根據客戶要求訂做）
1、極限壓強：5×10-4pa
2、抽速：大氣到5×10-3pa抽氣時間小于20分鐘。
3、升壓率：1×10-3pa~1×10-1pa時間大于10分鐘。
4、生產節拍：3-5分鐘。（根據生產工藝而定）。
氧化物薄膜、氮化物薄膜、氧氮化物薄膜、無定型硅薄膜和碳化硅薄膜等薄膜種類
