光學薄膜設備可以制備各種具備光學發生的膜層，如導電薄膜、太陽電池、減反射薄膜等，應用于電子、數碼、太陽能、玻璃、裝修等行業。
電腦自動化控制，界面設計簡易操作，超高再現性鍍膜，配置水晶傳感器膜厚計，自動化蒸鍍系統，實現參數錄入、過程監控及數據存儲等功能，強化生產管理，降低生產成本，可鍍制金屬、化合物、氧化物，膜層具有良好的光譜曲線穩定性，利用電子束蒸發源技術，裝配2套電子槍，產生高熱量使鍍材蒸發，高性能光學厚膜監控儀與計算機結合，實行智能控制，可達到超高精度的光學厚膜，加裝自動反面設計，可縮短蒸鍍作業時間，達到高效產能并減低生產成本，采用電氣控制模塊化組合，便于維護，工件架自動旋轉。
常見光學薄膜示意圖：
電容式觸摸屏
Low-E低輻射鍍膜玻璃
太陽能電池
| 真空室尺寸 | 直徑1300×高1300 | 直徑1650×高1650 | 直徑2000×高1650 |
| 真空機組 | KT800/分子泵+RTO600+2X70+2X-15 | 兩臺KT800/分子泵+RTO1200+兩臺2X70+2X-15 | 兩臺KT800/分子泵+RTO2400+兩臺2X70+2X-15 |
| 深冷裝置 | 溫度-135℃，抽速90000L/S，功率7.5KW | ||
| 真空性能 | 極限5×10-4Pa,抽速：大氣到5×10-3Pa小于10分鐘，升壓時間：1×10-3Pa到1×10-1Pa大于10分鐘 | ||
| 轉動夾具 | 球面或平面，5-20轉/立式公轉夾具 | 球面或平面，5-20轉/立式公轉夾具 | 球面或平面，5-20轉/立式公轉夾具 |
| 電子槍 | 單槍/電阻+磁控濺射 | 單槍/電阻+磁控濺射 | 單槍/電阻+磁控濺射 |
| 離子源 | 15A霍爾源一臺/矩形離子源 | 15A霍爾源一臺/矩形離子源 | 15A霍爾源兩臺/矩形離子源 |
| 晶體膜厚儀 | SQC-310（全中文操作界面） | SQC-310（全中文操作界面） | SQC-310（全中文操作界面） |
| 寬光譜監控 | 400-800nm多片反射 | 400-800nm多片反射 | 400-800nm多片反射 |
導電薄膜、太陽電池、減反射薄膜等，應用于電子、數碼、太陽能、玻璃、裝修等行業
環境能源方面：
太陽電池
建材等
電子顯示：
液晶顯示器的鏡頭和光部品
液晶
有機EL
光通信行業方面：
DWDM濾光片
半導體行業方面：半導體等產業設備鏡頭?光部品
激光器
光開關
記錄介質方面：
DVD、CDRW、CDR、CD等光磁盤的光部品
生物、醫療行業方面：
液晶放映機的鏡頭和光部品
液晶
有機EL
消費品方面：
照相機
數碼照相機
錄像機的鏡頭和光部品
攜帶電話液晶部分
攜帶電話數碼相機
汽車關聯鏡面
鏡頭
望遠鏡
光學設備鏡頭
傳真機
打印機
